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工業用ガス

工業用ガスは、幅広い産業で使われる窒素・酸素・炭酸ガス・アルゴン等の総称です。原材料や金属溶断、加熱・冷却など用途は多岐で、現代社会を支える基盤資材です。富士酸素工業は製造・供給から保安システム設計、機器メンテまで一貫対応し、最適仕様の提案と最新技術に基づく安全・安定供給で事業を支えます。

取扱ガス

鉄鋼業、自動車製造、造船業、化学工業、半導体製造、研究機関、農業など、あらゆる産業用途に対応できるラインナップです。お客様の事業目的·用途に合ったガスをご提供いたします。100 年以上の歴史で培ったノウハウは、富士酸素工業ならではの強みです。

酸素

工業用酸素は空気から分離・高純度化した強い酸化性ガス。支燃性を活かし、精錬・溶接・化学酸化、ガラス炉の酸素燃焼、排水曝気まで幅広く利用され、効率化と省エネに貢献し、多くの製造現場で不可欠です。

用途

・鉄鋼・非鉄の精錬
・溶接・溶断
・化学工業の酸化反応促進
・ガラス・セラミックス炉の酸素燃焼
・排水処理・オゾン水処理

ガス溶接

窒素

窒素は大気の約8割を占める無味無臭の不活性ガス。酸化や燃焼を抑える性質を活かし、パージ・置換や不活性雰囲気、防爆・防湿用途まで、産業全般で広く用いられ、品質保持や装置の安全運転に欠かせません。

用途

・金属加工の溶接雰囲気/レーザー加工のシールド
・化学品製造の防爆・パージガス
・医薬・化粧品の充てん前酸素置換
・電子部品保管の窒素パージ
・半導体製造の雰囲気(酸化・汚染防止)

液体窒素

炭酸

炭酸ガス(二酸化炭素)は空気より重い不燃性で水に溶けやすいガス。気体・液体・固体(ドライアイス)で扱え、消火、冷却・輸送、溶接のシールド、園芸CO₂施用に利用されます。

用途

・炭酸ガス消火器
・溶接のシールドガス
・ハウス栽培の光合成促進ガス

ドライアイス/CO2溶接

アルゴン

アルゴンは大気の1%未満の希ガスで反応性が極めて低い不活性ガス。溶接のシールドや金属精錬、半導体・ガラス工程に広く使われ、材料保護と品質安定に寄与します。

用途

・溶接のシールドガス
・ステンレスなど金属の精錬
・半導体基板・ガラス製造工程の雰囲気ガス
・金属3Dプリンターの雰囲気ガス

溶接シールドガス

アセチレンガス

アセチレンは可燃性ガスの中で最高水準の炎温度を示す燃料。高温炎で金属の溶接・溶断・ろう付けに優れ、原子吸光のフレームや各種ビニル系など有機化学の中間原料にも用いられます。圧接やフレーム加熱にも適します。

用途

・金属の熱処理(浸炭)
・圧接・ろう付け・フレーム加熱
・原子吸光分析のフレームガス
・有機化学の中間原料(アセトアルデヒド、ビニル誘導体など)

溶断

ヘリウム

ヘリウムは極めて低い沸点をもつ軽量の不活性ガス。超伝導マグネットの冷却、分析・電子工業のキャリアやリーク試験、光ファイバー・半導体工程、気球・飛行船の浮揚に幅広く用いられます。安定性にも優れます。

用途

・超伝導マグネット(MRI等)の冷却剤
・分析機器・電子工業のキャリアガス
・漏洩検査(リークテスト)
・光ファイバー・半導体製造工程の雰囲気ガス
・気球・飛行船の浮揚ガス

風船

水素

水素は最も軽い可燃性ガスで強い還元性と高い拡散性を持ちます。石油精製の脱硫、アンモニア・メタノール合成、金属の還元熱処理、半導体工程、燃料電池やロケット燃料として活用されます。エネルギー転換の鍵としても注目。

用途

・石油精製の脱硫プロセス
・アンモニア/メタノールなどの合成反応
・金属の還元熱処理・表面光沢処理
・半導体・電子部品製造の雰囲気/キャリアガス
・燃料電池・ロケット燃料などエネルギー用途

水素還元処理

アンモニア

アンモニアは強い刺激臭をもつ無色ガスで、水に非常に溶けアルカリ性を示します。容易に液化でき、肥料や脱硝、金属の浸炭・窒化など熱処理、工業用冷媒に使われ、CO₂を出さない次世代燃料としても注目。

用途

・肥料(アンモニア系窒素肥料)
・工場排気の脱硝剤
・金属の熱処理(浸炭・窒化)
・大型冷凍・冷蔵設備の冷媒ガス
・化学繊維などの原料

アンモニアガス配管

フロンガス

フロンは冷媒・発泡・洗浄・エアゾール推進剤として広く使われてきた化合物群。従来型はオゾン層破壊で規制対象となり、HFC等への置換と温室効果の小さい新冷媒の開発が進んでいます。環境負荷低減へ転換が進行中。

用途

・冷蔵庫・空調機器の冷媒
・断熱材の発泡剤
・半導体・精密部品の洗浄剤
・エアゾール製品の推進剤

業務用冷凍機の室外機

混合ガス

混合ガスは二種以上のガスを所定比率で配合した設計ガス。目的や工程条件に合わせて特性を最適化でき、溶接や半導体工程、分析・プロセス用キャリアなどで高い効果を発揮します。品質安定化や工程効率化に寄与。

用途

・溶接シールドガス(アルゴン+炭酸ガス)
・半導体の酸化防止(窒素+水素)
・プロセスガス・キャリアガスとしての各種用途
・レーザーガス(切断)

半自動溶接

高純度ガス

高純度ガスは不純物を厳格管理した単一成分ガス。副反応や汚染を抑え、半導体製造、分析・計測、プラズマ処理装置などで高い再現性とデータ信頼性を実現し、プロセス品質を安定化します。高精度な実験・生産に不可欠です。

用途

・半導体・精密機器の製造
・分析機器・ガス検知器の校正
・プラズマ処理装置

半導体製造

標準ガス

標準ガスは成分と濃度を精密に規定した校正・基準ガス。環境測定や排ガス分析、装置の校正・品質管理に用いられ、測定結果の正確さとトレーサビリティを保証する役割を担います。各種規格への適合評価を支援します。

用途

・大気汚染物質の測定
・自動車排出ガスの分析
・煙突排出ガスの監視
・ガス検知器・分析機器の校正

ガス分析

LPガス

LPガスは、プロパンやブタンなどの石油ガスを液化したもので、主成分は炭化水素です。環境に優しく経済的なエネルギーという評価から、導入も進んでいます。

用途

・金属塗装の乾燥焼き付け
・金属の溶解・鍛造品の熱処理
・ボイラー燃料
・加熱バーナーの燃料

ガスボイラーの原理
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